PVD真空鍍膜一般是加熱靶材使外貌組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，而且沉降在基片外貌，通過成膜進(jìn)程（散點(diǎn)－島狀布局-迷走布局-層狀發(fā)展）形成薄膜。 對(duì)付濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)樸領(lǐng)略為操作電子或高能激光轟擊靶材，并使外貌組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，而且終沉積在基片外貌，經(jīng)驗(yàn)成膜過蒸發(fā)鍍膜設(shè)備+所鍍產(chǎn)物圖蒸發(fā)鍍膜設(shè)備+所鍍產(chǎn)物圖程，終形成薄膜。

　　真空鍍膜包羅：磁控濺射法，電弧離子鍍法等，假如在鍍膜進(jìn)程中通入氮?dú)饪梢孕纬傻仯儗宇伾瘘S色，不然白色。該要優(yōu)先鍍層薄，一般在15個(gè)微米閣下，鍍層灼爍不需要后續(xù)加工。噴涂的要優(yōu)先有冷噴涂法。涂層很厚可以到達(dá)毫米量級(jí)，外貌粗拙需要后續(xù)加工

    PVD真空鍍膜是在真空爐里鍍膜處理的，而水電鍍是在水溶液里進(jìn)行處理的。真空鍍膜工藝程流復(fù)雜，環(huán)境和設(shè)備要求高，中間鍍膜工序有轉(zhuǎn)運(yùn)的過程。而水電工藝流程相當(dāng)簡(jiǎn)單，從設(shè)備到環(huán)境要求均沒有真空鍍膜苛刻，可全自動(dòng)化生產(chǎn)中完成。

   真空鍍膜現(xiàn)在有不連續(xù)鍍膜可以不導(dǎo)電。而水電鍍電鍍產(chǎn)品后導(dǎo)電性顯著增強(qiáng)， 真空鍍膜加工的顏色要比水電鍍的豐富，色澤光亮度要比水電鍍的亮。真空鍍膜保色時(shí)間會(huì)長(zhǎng)點(diǎn)，不會(huì)腐蝕氧化的，硬度稍稍差點(diǎn)。水電鍍的輪轂硬度稍稍好點(diǎn)，但是很容易發(fā)黃腐蝕的。

　   真空鍍鈦是此刻是一種較量風(fēng)行的產(chǎn)物加工做法，道理是在真空條件下，回收低電壓、大電流的電弧放電技能，操作氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都產(chǎn)生電離，操作電場(chǎng)的加快浸染，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其回響產(chǎn)品沉積在工件上，能賦予產(chǎn)物外貌金屬質(zhì)感和富厚的顏色，并改進(jìn)耐磨、耐腐化性，耽誤命命。