PVD真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù),在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。技術(shù)方面不斷的發(fā)展，PVD真空鍍膜不均

勻的問題在一定程度上得到了解決，但從一個大的范圍之內(nèi)來看，任何的情況之下，我們在應(yīng)用的過程中都會存在不均勻的情況，不均勻是絕對存在的，但是如果我們能夠更好的進(jìn)行調(diào)整，當(dāng)其相對處在一個穩(wěn)定的階段，也不會影響到我們正常的使用。

過去幾年，有越來越多的PVD真空鍍膜設(shè)備不斷的出現(xiàn)在使用的過程中，不僅僅能夠降低不均勻的情況，而且在解決問題上也都會變得更加方便。現(xiàn)在很多的設(shè)備，相對來說是那種小規(guī)格，而且更加便捷的系統(tǒng)，使用的過程中能夠更好的去實現(xiàn)其中的效果，但是也會存在不均勻的一些問題，所以我們應(yīng)該在解決問題的過程中有一些更正確的思考。

想要解決PVD真空鍍膜不均勻的情況，我們就應(yīng)該考慮自己的預(yù)期是什么，并且能夠根據(jù)自身的預(yù)期選擇適合尺寸的機(jī)票，再加上物理性能一致的一些產(chǎn)品，然后再進(jìn)行應(yīng)用，那么最終的效果才會更好。不均勻的問題是絕對存在的，我們在解決的時候，只能夠相對來說達(dá)到一個更好的效果，但是卻不能夠絕對讓其均勻。