由于弧光放電的特性，大顆粒是多弧離子鍍技術(shù)不可避免的缺陷。它的存在會(huì)影響涂層的加工質(zhì)量，因此已經(jīng)有人對(duì)此做了一些改善。在靶材表面加磁過濾管道，或者在基體和靶材之間增加擋板，是在文獻(xiàn)中和zhuanli中能經(jīng)常見到的一種方法，但是這些方法都在一定程度降低了涂層的沉積率，因此沒有在實(shí)際生產(chǎn)中獲得很好的應(yīng)用。生產(chǎn)中常見采用機(jī)械拋光的方法。下圖就是機(jī)械拋光后涂層表面形貌的一個(gè)對(duì)比，去除效果很明顯。這種涂層后處理方法由于效果明顯，設(shè)備造價(jià)低，受到生產(chǎn)企業(yè)的青睞，在實(shí)際生產(chǎn)中得到了很好的應(yīng)用。

另外我們也做了一些嘗試，采用高能離子轟擊來去除大顆粒，從下圖來看，以TiN涂層為基礎(chǔ)，在涂層沉積完成后，我們采用高能的鉻離子對(duì)涂層的表面進(jìn)行離子轟擊，涂層表面的大顆粒也得到了一定程度的改善。